Máquina de pulido de los semiconductores

Máquina de pulido de los semiconductores

En la pista de precisión del procesamiento de materiales semiconductores, la máquina de pulir y pulir de material semiconductores de Hemei se ha convertido en una opción ideal para muchas empresas de fabricación de semiconductores debido a su excelente rendimiento y tecnología innovadora.
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Descripción

Parámetros del equipo

 

 

Fuente de alimentación

220V 50Hz

Corriente eléctrica

6.3A

Diámetro de la placa

300 mm, 350 mm, 420 mm

Velocidad de la placa

0-120 rpm (el rango se puede ajustar)

Velocidad de rotación de la plantilla

0-120 rpm (el rango se puede ajustar)

Tiempo de trabajo

0-10 horas

Tamaño de oblea aceptable

3 pulgadas, 4 pulgadas, 6 pulgadas

 

Características del producto

 

 

En la pista de precisión del procesamiento de materiales semiconductores, la máquina de pulir y pulir de material semiconductores de Hemei se ha convertido en una opción ideal para muchas empresas de fabricación de semiconductores debido a su excelente rendimiento y tecnología innovadora.

 

Precisión de lapesa definitiva:El sistema de lapes de alta precisión desarrollado independientemente por HEMEI es una de las ventajas centrales de este equipo. El disco de lapes se fabrica utilizando procesos especiales, con una planitud extremadamente alta. Con un control preciso de la velocidad del motor, puede lograr la precisión de lapesa de nivel nanométrico. Tanto los materiales semiconductores a base de silicio como los materiales semiconductores compuestos emergentes, como el carburo de silicio y el nitruro de galio, pueden eliminar de manera uniforme y precisión los materiales de superficie, controlar efectivamente las tolerancias de espesor del material, y establecer las bases para los procesos de fabricación de semiconductores complejos posteriores posteriores.

 

Excelente efecto de pulido:La tecnología de pulido única permite al equipo tratar la superficie de los materiales semiconductores a un efecto súper espejo. Al optimizar el método de suministro de la solución de pulido y el control preciso de la trayectoria de movimiento de la cabeza de pulido, la rugosidad de la superficie del material se reduce significativamente, los defectos de la superficie se reducen significativamente y las propiedades ópticas y eléctricas del material se mejoran, cumplen con el cumplimiento de los defectos Requisitos de calidad casi estrictos de fabricación de chips de alta gama para superficies de materiales semiconductores.

 

Sistema inteligente de reconocimiento y posicionamiento de material:Este dispositivo está equipado con módulos avanzados de reconocimiento visual inteligente, que pueden identificar de manera rápida y precisa diferentes tipos de materiales semiconductores, así como marcas de posicionamiento en los materiales. La alineación precisa automática se completa antes del procesamiento, asegurando que los procesos de lapes y pulidos siempre estén alineados con el área objetivo, mejorando en gran medida el rendimiento y la eficiencia de producción del procesamiento, al tiempo que reducen los desechos del material causados ​​por la desviación del posicionamiento.

 

Tecnología de regulación de presión dinámica adaptativa:Equipado con sensores de presión de alta precisión, monitoreo en tiempo real de la presión de contacto entre los materiales y las herramientas de laminado y pulido. Según las características, el grosor y las etapas de procesamiento de los materiales de semiconductores, el sistema de control inteligente puede ajustar dinámicamente la presión para garantizar que la superficie del material esté uniformemente estresada durante todo el proceso de procesamiento, evitando el daño del material causado por una presión incorrecta y garantizar la estabilidad de Calidad de procesamiento.

 

Escenarios de uso del producto

 

 

Fabricación integrada de circuitos:En la producción de circuitos integrados a gran escala, se colocan requisitos extremadamente altos en la planitud y la suavidad de la superficie de los materiales semiconductores. La máquina de pulir y pulir de Hemei puede proporcionar materiales semiconductores de alta calidad para procesos clave como la fotolitografía y el grabado, mejorando de manera efectiva el rendimiento y la confiabilidad de los chips, y ayudar a las empresas de fabricación de circuitos integrados a lograr una integración funcional más potente en espacios de chips pequeños.

 

PRODUCCIÓN DE SEMICONDUCTORES POWER:Para el procesamiento de materiales semiconductores de energía como el carburo de silicio y el nitruro de galio, este equipo satisface las necesidades especiales de lapes y pulidos de estos materiales con excelentes compatibilidad y capacidades de procesamiento de alta precisión. La mejora del rendimiento de los dispositivos de semiconductores de potencia ampliamente utilizados en campos, como nuevos vehículos de energía y redes inteligentes, no se puede lograr sin el tratamiento fino de las superficies de los materiales por la máquina de pulir y pulir hemei.

 

Servicio postventa

 

 

Fabricación integrada de circuitos:En la producción de circuitos integrados a gran escala, se colocan requisitos extremadamente altos en la planitud y la suavidad de la superficie de los materiales semiconductores. La máquina de pulir y pulir de Hemei puede proporcionar materiales semiconductores de alta calidad para procesos clave como la fotolitografía y el grabado, mejorando de manera efectiva el rendimiento y la confiabilidad de los chips, y ayudar a las empresas de fabricación de circuitos integrados a lograr una integración funcional más potente en espacios de chips pequeños.

 

PRODUCCIÓN DE SEMICONDUCTORES POWER:Para el procesamiento de materiales semiconductores de energía como el carburo de silicio y el nitruro de galio, este equipo satisface las necesidades especiales de lapes y pulidos de estos materiales con excelentes compatibilidad y capacidades de procesamiento de alta precisión. La mejora del rendimiento de los dispositivos de semiconductores de potencia ampliamente utilizados en campos, como nuevos vehículos de energía y redes inteligentes, no se puede lograr sin el tratamiento fino de las superficies de los materiales por la máquina de pulir y pulir hemei.

 

Introducción de la empresa

 

 

Hemei Semiconductor se centra en la fabricación de equipos de semiconductores y se compromete a proporcionar soluciones de alta calidad para empresas de semiconductores globales. Con la tecnología y la innovación, tiene una alta reputación en la industria.

 

Desde su establecimiento, la compañía ha captado con precisión las tendencias de la industria y ha cultivado continuamente en los campos de investigación y desarrollo, producción y marketing. Después de años de acumulación, desde el principio, nos hemos convertido en líderes y promovimos el avance de la tecnología de procesamiento de semiconductores.

 

Equipo de I + D de élite:Reunir a profesionales de varios campos, como la tecnología de semiconductores e ingeniería mecánica. Con un conocimiento profundo y una rica experiencia, profundizamos en las características de procesamiento de materiales, superamos los desafíos técnicos y creamos una máquina de pulir y pulir de material semiconductora líder.

 

Logros tecnológicos fronterizos:Haga hincapié en la innovación, aumenta la inversión de investigación y desarrollo, las tecnologías básicas maestras, como el lapso de alta precisión y el posicionamiento de reconocimiento inteligente, obtienen múltiples derechos de propiedad intelectual y ayudan en las actualizaciones de productos.

 

Con las máquinas de lapes y pulidos de material de semiconductores como núcleo, hemos lanzado una variedad de equipos de lapes y pulidos para diferentes necesidades y escamas, incluidos los cortes, la limpieza y otros equipos, que brindan servicios de adquisiciones únicas.

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